টাইটানিয়ামে প্ল্যাটিনাম কীভাবে কোট করবেন?

টাইটানিয়াম সাবস্ট্রেটে প্ল্যাটিনামের ধাতুপট্টাবৃত প্রক্রিয়া

টাইটানিয়ামে প্ল্যাটিনামের ইলেক্ট্রোপ্লেটিং প্রক্রিয়াটিতে নিম্নলিখিত পদক্ষেপগুলি জড়িত:
টাইটানিয়াম সাবস্ট্রেটের প্রিট্রেটমেন্ট → ইলেক্ট্রোক্লিয়ানিং → জল ধুয়ে → অ্যাক্টিভেশন → পাতিত জল ধুয়ে → প্ল্যাটিনামের ব্রাশ ইলেক্ট্রোপ্লেটিং → পাতিত জল ধুয়ে → ঘা শুকানো।

 

1. টাইটানিয়াম সাবস্ট্রেটের প্রিট্রেটমেন্ট

 

বর্তমানে, বিভিন্ন ধরণের প্ল্যাটিনাম ধাতুপট্টাবৃত সমাধান রয়েছে যা অনেকগুলি স্তরগুলিতে ব্যবহার করা যেতে পারে। তবে টাইটানিয়ামে প্ল্যাটিনাম ধাতুপট্টাবৃত চ্যালেঞ্জিং কারণ টাইটানিয়াম প্যাসিভেশনের জন্য অত্যন্ত প্রবণ। পৃষ্ঠের প্যাসিভ ফিল্মটি লেপ এবং সাবস্ট্রেটের মধ্যে দৃ strong ় বন্ধনকে বাধা দেয়, যা একটি ভাল ফলিত প্ল্যাটিনাম স্তর অর্জন করা কঠিন করে তোলে। অতএব, প্যাসিভ ফিল্মটি সরাতে এবং একটি সক্রিয় স্তর-এ টাইটানিয়াম হাইড্রাইড (টিআইএইচ) ফিল্ম গঠনের জন্য প্রিট্রেটমেন্ট প্রয়োজনীয়। এই হাইড্রাইড স্তরটি টাইটানিয়াম সাবস্ট্রেট এবং প্ল্যাটিনাম লেপ উভয়ের সাথে কোয়েসি-ধাতব বন্ধন তৈরি করে, ভাল আনুগত্য নিশ্চিত করে।

 

এচিং প্রক্রিয়া

 

এচিংয়ের উদ্দেশ্য হ'ল টাইটানিয়াম পৃষ্ঠের প্যাসিভ ফিল্মটি সরিয়ে ফেলা। এটি সাধারণত 5-10 মিনিটের জন্য ঘরের তাপমাত্রায় একটি উচ্চ ঘনত্ব নাইট্রিক অ্যাসিড-হাইড্রোফ্লোরিক অ্যাসিড সিস্টেম ব্যবহার করে করা হয়।

 

অ্যাক্টিভেশন প্রক্রিয়া

 

অ্যাক্টিভেশনের উদ্দেশ্য হ'ল টাইটানিয়াম পৃষ্ঠে একটি সক্রিয় ফিল্ম তৈরি করা। সক্রিয়করণের পরে, টাইটানিয়াম পৃষ্ঠটি একটি টাইটানিয়াম হাইড্রাইড (টিআইএইচ) স্তর তৈরি করে, যা ধূসর-কালো প্রদর্শিত হয়। টাইটানিয়াম সাবস্ট্রেট, টিহ এবং প্ল্যাটিনাম লেপের মধ্যে ওভারল্যাপিং শক্তি ব্যান্ডগুলির কারণে, কোয়াসি-ধাতব বন্ডগুলি গঠিত হয়, দৃ strong ় আঠালোতা নিশ্চিত করে। সক্রিয়করণের পরেই টাইটানিয়াম শীটটি প্ল্যাটিনাম জমার জন্য ধাতুপট্টাবৃত দ্রবণে নিমগ্ন হতে পারে।

 

2। ইলেক্ট্রোপ্লেটিং প্রক্রিয়া

 

জলীয় ইলেক্ট্রোপ্লেটিং

 

প্ল্যাটিনামের জলীয় ইলেক্ট্রোপ্লেটিং হ'ল সর্বাধিক ব্যবহৃত পদ্ধতি। ধাতুপট্টাবৃত সমাধানগুলি অ্যাসিডিক এবং ক্ষারীয় প্রকারে শ্রেণিবদ্ধ করা যেতে পারে।

ক্ষারীয় প্ল্যাটিনাম ধাতুপট্টাবৃত সমাধানগুলির মধ্যে রয়েছে:

 

পি-কল্ট প্লেটিং সলিউশন (ডাইনিট্রোডিয়ামমাইন প্ল্যাটিনাম প্রধান লবণ হিসাবে)

পটাসিয়াম হেক্সাহাইড্রোক্সিপ্ল্যাটিনেট-ভিত্তিক দৃ strongly ়ভাবে ক্ষারীয় প্লেটিং সলিউশন

অ্যাসিডিক প্ল্যাটিনাম ধাতুপট্টাবৃত সমাধানগুলির মধ্যে রয়েছে:

সালফামিক অ্যাসিড-ভিত্তিক প্ল্যাটিনাম প্ল্যাটিং সলিউশন

ডিএনএস (ডাইনিট্রোসালফ্যাটোপ্ল্যাটিনেট) সালফেট প্লেটিং সলিউশন

 

(1) সালফামিক অ্যাসিড-ভিত্তিক প্লেটিং সলিউশন

 

এই দ্রবণটি সালফামিক অ্যাসিডের জটিল প্রভাবের কারণে সূক্ষ্ম স্ফটিককরণের সাথে উজ্জ্বল, ঘন প্ল্যাটিনাম স্তর তৈরি করে, যা ক্যাথোড মেরুকরণকে বাড়িয়ে তোলে।

 

(2) ডিএনএস প্লেটিং সলিউশন (দৃ strongly ়ভাবে অ্যাসিডিক)

 

এই দ্রবণটি কম তাপমাত্রায় উজ্জ্বল, ঘন প্ল্যাটিনাম জমা দেওয়ার অনুমতি দেয়। প্লেটিংয়ের সময় যেহেতু কোনও গ্যাস প্রকাশিত হয় না, তাই পিনহোল বা পোরোসিটির ঝুঁকি হ্রাস করা হয়। যাইহোক, বর্তমান দক্ষতা কম, এবং ডাইনিট্রোসালফ্যাটোপ্ল্যাটিনেটের প্রস্তুতি পি-স্যাল্টের চেয়ে জটিল।

 

গলিত লবণের ইলেক্ট্রোপ্লেটিং

 

গলিত সল্ট প্ল্যাটিনাম প্লাটিং 1930 এর দশকে শুরু হয়েছিল। একটি গলিত সায়ানাইড স্নানে, অবাধ্য ধাতুগুলির প্যাসিভ ফিল্মটি দ্রবীভূত করা যায় এবং যেহেতু ইলেক্ট্রোলাইট অক্সিজেন মুক্ত, তাই আবরণটি দৃ strongly ়ভাবে মেনে চলে। ফলস্বরূপ আমানত নমনীয় এবং চাপমুক্ত।

ইলেক্ট্রোলাইট প্রস্তুতি:

53% NACN এবং 47% কেসিএন এর মিশ্রণটি একটি সিরামিক ক্রুশিবলটিতে প্রাক-গলানো হয়।

যখন তাপমাত্রা গলে যাওয়া পয়েন্টটি 50 ডিগ্রি (550 ডিগ্রি) দ্বারা ছাড়িয়ে যায়, দুটি প্ল্যাটিনাম ইলেক্ট্রোড সন্নিবেশ করা হয় এবং বৈদ্যুতিন বিশ্লেষণ শুরু হয়।

প্ল্যাটিনাম আয়ন ঘনত্ব একবার ~ 0। 3%এ পৌঁছে গেলে, ধাতুপট্টাবৃত শুরু হতে পারে।

অপারেটিং শর্তাদি:

ক্যাথোডিক বর্তমান ঘনত্ব: 30–300 এ/এম²

বর্তমান দক্ষতা: 65-98%

গলে যাওয়া ব্যতীত আরগন গ্যাস সুরক্ষা প্রয়োজন।

এই পদ্ধতিটি ঘন, উজ্জ্বল, স্ট্রেস-মুক্ত প্ল্যাটিনাম আবরণ তৈরি করে তবে প্রক্রিয়াটি জটিল, পরিবেশগতভাবে বিপজ্জনক এবং ব্যয়বহুল, এটি বৃহত আকারের অ্যাপ্লিকেশনগুলির জন্য অনুপযুক্ত করে তোলে।

 

ব্রাশ ধাতুপট্টাবৃত

 

ব্রাশ প্লেটিং 1899 সালে অফ-ট্যাঙ্ক মেরামত প্লেটিং পদ্ধতি হিসাবে ইউরোপে উদ্ভূত হয়েছিল। প্রাথমিকভাবে, একটি তুলো-মোড়ানো অ্যানোড প্লেটিং সলিউশনে ডুবানো হয়েছিল এবং একটি মেরামত স্তর জমা দেওয়ার জন্য ত্রুটিযুক্ত অঞ্চলগুলিতে ঘষে। প্রারম্ভিক ব্রাশ প্লেটিং ধীর ছিল, দুর্বল আঠালো ছিল এবং পাতলা আবরণ তৈরি করেছিল। যাইহোক, কয়েক দশক বিকাশের পরে বিশেষায়িত প্লেটিং কলম, অ্যাম্পিয়ার-ঘন্টা-নিয়ন্ত্রিত বিদ্যুৎ সরবরাহ এবং উচ্চ-ঘনত্বের প্লেটিং সলিউশন সলিউশন-ব্রাশ প্লেটিং একটি বহুল পরিমাণে গৃহীত বৈদ্যুতিন রাসায়নিক জবানবন্দি পদ্ধতিতে পরিণত হয়েছিল।

ব্রাশ প্লেটিংয়ের সুবিধা:

উচ্চ ধাতব আয়ন ঘনত্ব → দ্রুত জমার হার (প্রচলিত প্লেটিংয়ের চেয়ে 5-15 গুণ দ্রুত)।

লো হাইড্রোজেন এম্ব্রিটমেন্ট, উচ্চ কঠোরতা, কম পোরোসিটি, নিয়ন্ত্রণযোগ্য বেধ noven সাধারণত কোনও পোস্ট-মেশিনিংয়ের প্রয়োজন হয় না।

সহজ সরঞ্জাম, সহজ অপারেশন, সাইটে প্রয়োগযোগ্যতা gen জীর্ণ বা বড় আকারের অংশগুলি মেরামত করার জন্য আদর্শ।

এই সুবিধার কারণে, ব্রাশ প্লেটিং প্রাথমিকভাবে আলংকারিক ধাতুটি প্লেটিংয়ের পরিবর্তে মেরামত অ্যাপ্লিকেশনগুলির জন্য ব্যবহৃত হয়।